錦州和力真空冶金工業(yè)有限公司
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隨著真空獲得技能的發(fā)展，真空運(yùn)用日漸擴(kuò)大到工業(yè)和科學(xué)研究的各個(gè)方面。真空運(yùn)用是指運(yùn)用稀薄氣體的物理環(huán)境完成某些特定使命。有些是運(yùn)用這種環(huán)境制作產(chǎn)品或設(shè)備，如燈泡、電子管和加速器等。 這些產(chǎn)品在運(yùn)用期間始終保持真空；而另一些則僅把真空當(dāng)作生產(chǎn)中的一個(gè)過程，產(chǎn)品在大氣環(huán)境下運(yùn)用，如真空鍍膜、真空枯燥和真空浸漬等。
真空的運(yùn)用范圍廣，主要分為低真空、中真空、高真空和真空運(yùn)用。低真空是運(yùn)用低(粗)真空獲得的壓力差來夾持、進(jìn)步和運(yùn)送物料，以及吸塵和過濾，如吸塵器、真空吸盤 。
中真空一般用于排除物猜中吸留或溶解的氣體或水分、制作燈泡、真空冶金和用作熱絕緣。如真空濃縮生產(chǎn)煉乳，不需加熱就能蒸發(fā)乳品中的水分。
真空熔鑄爐能夠保護(hù)活性金屬，使其在熔化、澆鑄和燒結(jié)等過程中不致氧化，如活性難熔 金屬鎢、鉬、鉭、鈮、鈦和鋯等的真空熔煉；真空煉鋼能夠防止參加的一些少量元素在高溫中燒掉和有害氣體雜質(zhì)等的滲入，能夠進(jìn)步鋼的質(zhì)量。
高真空可用于熱絕緣、電絕緣和防止分子電子、離子磕碰的場(chǎng)合。高真空中分子自由程大于容器的線性尺寸，因此高真空可用于電子管、光電管、陰射線管、X 射線管、加速器、質(zhì)譜儀和電子顯微鏡等器材中，以防止分子、電子和離子之間的磕碰。這個(gè)特性還可運(yùn)用于真空鍍膜 ，以供光學(xué)、 電學(xué)或鍍制裝飾品等方面運(yùn)用。
外層空間的能量傳輸與真空中的能量傳輸類似，故真空可用作空間模擬。在真空條件下，單分子層形成的時(shí)間長(zhǎng)(以小時(shí)計(jì))，這就能夠在一個(gè)外表尚未被氣體污染前 ，運(yùn)用這段充分長(zhǎng)的時(shí)間來研究其外表特性，如沖突、粘贊同發(fā)射等。
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